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C07 現地(in-situ)高溫高壓拉曼光學系統(In-situ High-Temperature/High-Pressure Raman System)

儀器中文全名

C07 現地(in-situ)高溫高壓拉曼光學系統

儀器英文全名

C07 In-situ High-Temperature/High-Pressure Raman System

儀器位置

地球科學系光譜學實驗室(一樓30104室)

單位/教授

地球科學系/龔慧貞教授

儀器管理人

黎瀞謙

TEL

(06)2359136

E-mail

mrl.ncku@gmail.com

技術類別

£前段製程:

£微影 £鍍膜 £蝕刻 £擴散 £化學機械研磨

£表面分析:

£電子能譜儀 £表面特性

£後段製程:

£晶圓針測 £晶圓切割 £黏晶 £打線接合 £封膠

£掃描探針:

£顯微系統 £機械性質 

£形貌分析

£電子顯微:

£SEM £TEM £樣品製備

£物理性質:

£磁性 £熱分析 £電學

¢光學檢測:

¢光譜儀 £顯微形貌分析

£生物醫學:

£分析 £樣品製備

£晶相分析:

£XRD

£其他:

£工程樣品製備 £材料力學 

£電腦計算

£分析化學:

£核磁共振儀 £質譜/層析

應用/功能

簡介

目前以固態樣品為主:半導體材料、碳材料、藥物、化妝品、礦物、岩石、古物等。

廠牌/型號

廠牌:HORIBA                               

型號:iHR 550

重要規格

  • 633、532及458 nm 雷射激發光源
  • 拉曼光譜範圍:70~4000 cm-1(使用458 nm雷射)
  • 物鏡:10X、20X(長工作距離)及50X(長工作距離)
  • 光譜儀:焦距長為 0.55米,含1800/600/100 gr/mm光柵
  • 光徑上可插入偏光組,可置入樣品大小可達100公分立方體積(需先與管理員確認實驗細節)
  • 高壓裝置:鑽石高壓砧(至少20 GPa),高溫裝置可達至少攝氏1200度高溫,高壓裝置僅限小體積(微米尺寸)之粉末或單晶樣品。

取樣/使用

注意事項

  • 自行檢測或代工檢測,請與管理者聯絡後,依案件不同,取得所需注意事項之資訊。
  • 委託檢測者,請自行取樣(親送或郵寄),若委託實驗室取樣將酌收手續費。
  • 高壓實驗若需使用本實驗室鑽石高壓砧(Diamond Anvil Cell, DAC)-酌情依實驗條件(即壓力範圍)外加2000至6000元的材料耗損費用(實驗準備及墊片﹑鑽頭耗材及鑽石損耗)。
  • 高溫實驗若需使用本實驗室加熱台-酌情依實驗條件(溫度,時間), 每次外加200至1000元的材料耗損費用(加熱台相關耗材)。
  • 以上費用為固態樣品檢測之收費方式,如為其他特殊樣品(如毒性、易爆性、空氣/濕氣敏感性、光敏感性、放性、腐蝕性等)檢測之可行性與收費標準,請來電洽詢。
  • 檢測工作天數依顧客要求的普通或速件為依據。
  • 使用共用儀器設備所取得之各項量測數據,不得用於營利用途、廣告標示、訴訟上證據等其他用途。

開放時段

原則上開放時間為週一至週五10:00~17:00,統一與管理員聯絡確認時間後再至本系統預約。

訓練課程規定

  1. 成大學生使用者已有微奈米中心拉曼光譜儀使用執照優先,只需1小時操作使用訓練(訓練費用同等於1小時代工費用計算)。
  2. 成大學生使用者已修習過「振動光譜學」者或相關課程者,需3小時操作使用訓練(訓練費用同等於2小時代工費用計算)。
  3. 學界(成大以外)及業界使用者,如需自己操作則視以上(第1、2項)狀況調整操作使用訓練費用。

收費標準(含訓練課程)

校內學術:

 自行操作-300元/時

 代工-1000元/時

校外學術:

 自行操作-600元/時

 代工-1600元/時

業界:

 自行操作-900元/時

 代工-2400元/時

預約系統

https://cis.cfc.ncku.edu.tw/apparatus/index.php

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