E11 共濺鍍薄膜沉積系統

E11 Co-Sputtering Deposition System

壹、儀器設備規格

　　Sputter利用濺射原理，這個原理非常類似撞球，固態表面受到帶有高能量的例子撞擊，基於動量轉移，表面的原力或分子從帶有高能量的粒子（通常為Ar氣），由表面撞擊出，成長在上方基板。濺鍍即是利用此一原理，利用高能量的離子束或原子束打擊待鍍材料，將動量轉移至待鍍物表面，使表面的原子獲得動能，脫離母材，並在真空環境中飛至待鍍物表面沉積成膜。

　　通常使用氬氣是因為氬氣是惰性氣體，不會跟待鍍材料反應，當然也跟可以選擇其他惰性氣體，但跟碰撞原理一樣如果兩個物理質量越相近，動量轉換就越有效率；通氧氣則是為了讓待鍍物的含氧量不同。

貳、服務項目

代工製備高品質氧化物、金屬膜、氧化處理、氫化處理、真空熱退火

參、取樣與使用注意事項

1. 預約時應填寫委託代工單，詳細填寫樣品參數，參數如下：基板材料、基板尺寸、成長材料、薄膜厚度、樣品數目、保護層有無。提供氧化物薄膜材料如氮化鎵、氧化鋅、氧化鈷、氧化鎂；金屬如鈮（Niobium）、銅、鋁、鈷….等，可以自行準備靶材。應於委託代工7日前將樣品交付儀器管理人。
2. 若濺鍍材料非實驗室所有，則需自備靶材，且須儀器管理人同意。
3. 易靶材揮發、具磁性或是易污染靶財，需再提前與儀器管理人討論評估。
4. 代工前請先與儀器管理人討論製程需求以供評估。
5. 收費含基板(基材)準備時間。

肆、開放時段

每週一、二，9:00～17:00開放代工，請於預計代工時程3天前預約

伍、訓練課程規定

因本精密儀器操作之特殊工藝要求，不開放自行操作，暫無提供訓練課程。請委託代工人依規定預約代工。如欲參與磊晶過程，請與儀器管理人事先聯絡。

陸、收費標準（含訓練課程）※

校內學術（有單位配合）：750元／半小時

校內學術（無單位配合）：1000元／半小時

校外學術：1000元／半小時

業界：1750元／半小時

柒、儀器聯絡與管理人

聯絡人：蘇書玄　

電話：06-2757575 #65266　　

E-mail：

諮詢教授：黃榮俊

電話：06-2757575 #65266

E-mail：jcahuang@mail.ncku.edu.tw

儀器放置地點：儀設大樓1樓0113室

捌、其他注意事項

1. 使用共用儀器設備所取得之各項量測數據，不得用於營利用途、廣告標示、訴訟上證據等其他用途。