E11共濺鍍薄膜沉積系統(Co-Sputtering Deposition System)

壹、儀器設備說明 (規格)：

  Sputter利用濺射原理，這個原理非常類似撞球，固態表面受到帶有高能量的例子撞擊，基於動量轉移，表面的原力或分子從帶有高能量的粒子（通常為Ar氣），由表面撞擊出，成長在上方基板。濺鍍即是利用此一原理，利用高能量的離子束或原子束打擊待鍍材料，將動量轉移至待鍍物表面，使表面的原子獲得動能，脫離母材，並在真空環境中飛至待鍍物表面沉積成膜。
        通常使用氬氣是因為氬氣是惰性氣體，不會跟待鍍材料反應，當然也跟可以選擇其他惰性氣體，但跟碰撞原理一樣如果兩個物理質量越相近，動量轉換就越有效率；通氧氣則是為了讓待鍍物的含氧量不同。

貳、服務項目：

委託代工製備高品質氧化物薄膜。

參、取樣、使用應注意事項：

1. 預約時應填寫委託代工單，詳細填寫樣品參數，參數如下：基板材料、基板尺寸、成長材料、薄膜厚度、樣品數目、保護層有無。主要提供氧化物薄膜材料如氮化鎵、氧化鋅、氧化鈷。應於委託代工7日前將樣品交付儀器管理人。
2. 代工一天，僅能成長一批樣品，依據時段長短計費。
3. 若濺鍍材料非實驗室所有，則需自備靶材，且須儀器管理人同意。
4. 靶材若易揮發，或易污染其他靶財，恕不予代工。
5. 如違反上述規定者，恕不予代工。

肆、使用時段與預約：

應於預計代工時程14天前到網站預約。

每周一、二 09:00-17:00開放代工。

伍、訓練課程規定辦法

因本精密儀器操作之特殊工藝要求，不開放自行操作，暫無提供訓練課程。請委託代工人依規定預約代工。如欲參與磊晶過程，請與儀器管理人事先聯絡。

陸、收費辦法及標準(含訓練課程)：

校內學術(有單位配合)：1500元/小時。

校內學術(無單位配合)：2000元/小時。

校外學術：2500元/小時。

業界：3500元/小時。

柒、儀器聯絡與管理人：  

聯絡人：廖健宇　諮詢教授：黃榮俊

分機：31363#209　　分機：65266

信箱：jcahuang@mail.ncku.edu.tw

儀器放置地點：儀設大樓1樓0113室